12.保存到发光贴图(2) 这个选项的缺点就是将有更多的一次反弹GI光线,但更糟糕,同样有更多的二次反弹GI光线(计算详细的GI光线,特别是二次反弹,是需要精细的计算的).这就意味着你不得不依赖于发光贴图和QMC GI的计算来创建高质量的阴影.在产品渲染里这不是个大问题,因为那不再有没有那么多的二次反弹.例如光线打到球的顶部(=一次反弹),将反弹(二次反弹)回天空去.所以二次反弹在渲染里没有任何影响.仅仅少数将在地板与物体之间反弹,或者从一个物体反弹到另一个.但这个二次反弹将对照明和阴影的创建不会有什么影响. 这个在室内场景照明里将变为很大的问题.在那里,二次反弹不会到天空里,但大概将会打到天花或者墙上,一直反弹再反弹...所以在这些场景里,二次反弹在最终照明表现和阴影都有着巨大的影响.所以在这种情况下,通过用直接光线作为一次反弹('store with IR map'关闭)来减少GI光线的数量将会是一个好主意.想一下,取代了依赖一次反弹GI光线来开始,现在用已经照亮了大片场景的直接光线来开始(质量是完美的,因为是直接光线),然后就是一次反弹(ir map)和二次反弹.我将在室内照明指南里展示. 来总结一下,对于产品渲染,你可以从 store with IR map 选项处大大获益,因为那没有什么二次光线反弹.你将需要改进发光贴图设置,这就导致更长的GI计算,但这图像的实际渲染会快很多,因为那没有什么复杂的区域阴影来渲染.总的渲染时间(GI计算+图像的光线跟踪)将少于当你使用真正的光线跟踪区域阴影(这里GI计算将很快,但实际光线跟踪将用去大量时间,组合起来总渲染时间就长很多). 看下图,用以下设置: - adaptive QMC AA 1/4 - QMC sampler卷展栏下noise threshold=0.002 - 发光贴图:看下面的图 如你所见,渲染时间减了一半,且对比于光线跟踪区域阴影例子,这里完全地没有噪波!但阴影就不够精确. 

来到发光贴图设置里,将min/max改成-4/-3,hsph subdivs改成20.在QMC sampler卷展栏里将noise threshold改成0.005.这是非常快的测试渲染设置.再次渲染图像.注意现在阴影少了多少细节(如下图,球体看起来有点飘).但是,11.3秒对一个完全地抗锯齿图像来说非常不错:-) 
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